鍍液（yè）是由什麽組成的

 鍍液組成
目（mù）前研（yán）究和使用（yòng）的三價鉻電鍍液主要成分如下：
(1)主鹽：當前三價鉻鍍鉻體係主（zhǔ）要有（yǒu）氯化物體係，硫酸鹽（yán）體係和硫酸鹽-氯化物混合體係。
氯化物鍍液導電好，電壓低，鍍液分散能力、覆蓋能力和電流效率較高，但陽極會析出有毒的CL2，且對設備腐蝕較重;硫酸鉻電鍍時陽極析出（chū）無毒的氧（yǎng）氣，無汙（wū）染，但鍍液導電性不如氯化物（wù），鍍液分散能力、覆蓋能力和電流（liú）效率較低（dī）。
(2)絡合劑：通（tōng）常為羥基羧酸及其鹽，如甲酸和乙酸鹽、氨基乙（yǐ）酸、草酸及其鹽，檸檬酸（suān）及其鹽，硫氰算眼和酒石酸鹽等。
(3)導電鹽：減少電能的消耗。多為鈉、鉀、銨的氯化（huà）物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維持鍍液PH值穩（wěn）定。多為硼酸、醋酸鹽、鋁鹽以及檸檬酸鹽等（děng）。
(5)穩定（dìng）劑：複合型還原劑，抑製和降低六價鉻的產生。多（duō）為甲醇、亞（yà）硫酸鈉、鹵化物（wù）等（děng）。

工藝條件
(1)溫度：最好在（zài）室溫下進行，工作溫度一般控製在15～55℃。溫度升高（gāo）會（huì）降低濃差極（jí）化，並使CR3+的析（xī）出點位正移，同時析氫嚴重，不利於（yú）鉻的沉（chén）積。
(2)PH值為1～4。PH值低時析氫嚴重，陰極電（diàn）流效率降低，PH值高時易發（fā）生羥橋化（huà）反應，鍍層發暗。
(3)電流密度為3～100A/DM2。陰極電流密度範圍較（jiào）寬，但較低時會（huì）影響鉻沉積速度，陰（yīn）極電流密度過（guò）高會（huì）影響到（dào）鍍層（céng）性能。
(4)電流效率為10%～25%。可以進行輕微攪拌。
另外，三價鉻鍍鉻有單槽方式和雙槽方式，單槽方式（shì）中的陽極材料是石墨棒，與其他（tā）普通（tōng）電鍍一樣;雙槽（cáo）方式使用了陽極內槽，可（kě）以使用鉛錫合金陽極罩，另外作為陽極基礎（chǔ）液使用了稀硫酸。

三價鉻鍍鉻優點
三價鉻電鍍具有下列優點：
(1)毒性低，汙染小。鍍液清洗水中不含六價鉻，廢水稍加處理即可（kě）排放，且電鍍過程不產生有毒的鉻（gè）酸霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價鉻（gè）鍍鉻的1/10，分散能力和覆蓋能力好，成品率提高;
(3)電鍍過程不受電流中斷的影響，無需（xū）退鍍;
(4)陰極電（diàn）流效率可達21～25%，高於六價鉻電鍍，提高（gāo）了生產率。

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