請問真空電鍍加工的（de）方法是什（shí）麽？

 真空電鍍（dù）加工是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表麵處理技術等眾多方麵有（yǒu）著十分廣泛（fàn）的應用。為了讓大家更詳細的了解（jiě）真空鍍膜的應用，今天小編詳細為大家介紹真空電鍍加工的主要幾種方法，希望對大家有用（yòng）!

真（zhēn）空電（diàn）鍍應（yīng）用，簡（jiǎn）單地理解就是在（zài）真空環境下，利用蒸（zhēng）鍍、濺射以及隨後凝結（jié）的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金（jīn）屬薄膜（mó）或者是覆蓋層。相對（duì）於傳統電鍍方式，真空電鍍應用屬於一種幹式（shì）電鍍，它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍。其原理是在真空條件（jiàn）下，用（yòng）蒸發器加熱帶蒸發物質（zhì），使其氣化（huà）或升華，蒸（zhēng）發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出固態薄膜的（de）技（jì）術。

濺射鍍膜。濺射鍍（dù）膜是真（zhēn）空（kōng）條（tiáo）件下，在陰（yīn）極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出（chū）原子，濺射（shè）出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

離子鍍（dù）膜。即幹式螺杆（gǎn）真空泵廠家已經介紹過的真空離子（zǐ）鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍（dù）膜技術基礎上發展（zhǎn）而來的，因此兼有兩者的工（gōng）藝特點。在真空條件下，利用氣體（tǐ）放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，並在（zài）離子轟（hōng）擊下（xià），將蒸發物或其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟（hōng）擊，十分清潔。

真空卷（juàn）繞鍍膜。真空卷（juàn）繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性（xìng）基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝（zhuāng）飾性屬性。

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