必知：不同基體電子元（yuán）件的鍍金（jīn）方法

 1.銅（tóng）、黃銅鍍金

以銅、黃銅為基體的電子元件鍍金是比其他金屬基體（tǐ）簡單。鍍金（jīn）所需的（de）鍍金（jīn）液中含中等濃度金，隻有金的濃度合適才能得到（dào）導（dǎo）電好外觀美麗的鍍層。

具（jù）體步驟如下：首先使（shǐ）用汽油或者四（sì）氯化碳等有機（jī）溶劑吸去（qù）電子元件上的油性汙漬，如果單純衝洗或浸泡去油漬效果不好;其次完成後（hòu）利用超聲（shēng）波化學除油，再進（jìn）行熱水（shuǐ）、冷水、酸（suān）洗(硫（liú）酸、硝酸、水的混合液)、浸泡碳酸鈉水溶液。

鍍金所（suǒ）用的鍍金液一般成分是（shì）氰（qíng）化金鉀（jiǎ）、碳酸鉀等（děng），鍍金完成後需（xū）要在 70 ～ 80℃的純淨水中超聲波攪動清洗(純淨水的電導率應≤ 10us/cm)，清洗時間（jiān）不少於（yú） 10 分鍾（zhōng），最後幹燥 。

2 .磷青（qīng）銅鍍金

生活中所用的插線板上的（de）插頭、插座一（yī）般都是磷青銅元件，之前這種基體金屬（shǔ）進行鍍金需要預鍍（dù）銅、再鍍金，比銅、黃（huáng）銅基體的電子元件鍍（dù）金工序複雜，鍍金（jīn）層質量也不易得到保證。

經過多年研究試驗，其鍍金工序簡單且金（jīn）鍍層質量可靠很多，先用汽油除去電子（zǐ）元件上的油漬汙漬，再超聲波化學除油，然後進行（háng）熱水、冷（lěng）水、鹽酸酸洗，再用含氰化金鉀、碳酸鉀的鍍金液進行鍍金（jīn）。

3 .矽錳青銅鍍金

以矽錳青銅（tóng）為基體金屬的電子元件進行鍍金，所（suǒ）需工序跟上述金屬基（jī）體無太大差別，隻是浸泡溶液為氫氟酸，氫（qīng）氟酸（suān）可以去除酸洗後產生的矽化合物，這種矽化合物是黑色的，附著（zhe）在元件表麵，影響（xiǎng）電鍍金（jīn）的鍍（dù）層結合力。

4 .鎳及鎳合金鍍金

一些微小的電子元件如電子管等（děng）一般是鎳及鎳合（hé）金，如果想要得到優異（yì）的導電性能就需要進行鍍金。鍍金工序比較簡單，基本同銅、黃銅金屬基體的電（diàn）子元件。鎳及鎳合金鍍（dù）金電（diàn）鍍前使用鹽（yán）酸酸洗獲得的金鍍層結合力較好。

2 電鍍（dù）金（jīn）和化學鍍金

1 .電鍍金（jīn）

雷達上的金鍍層、各種引線鍵合的鍵合麵等都是電鍍金的（de）應用。電鍍金的（de）鍍金陽極一般是鉑金鈦網，陰極是矽片，當陽極、陰極連上電源，氰化金鉀鍍液就會產生電流進而形成電場，陽極釋放電子，陰極接收電子，陰極（jí）附近的絡合態金離子和電子結（jié）合以金原子的形式沉積在陰（yīn）極（jí）表麵，逐（zhú）漸在矽片表麵形成一層均勻、致密的金，這（zhè）就是電鍍金（jīn）的原理。

電（diàn）鍍金使用（yòng）的（de）電鍍液一般有氰（qíng）化物和非氰化物兩（liǎng）種，但是氰化物有劇毒，使用不方（fāng）麵且不（bú）易不管理（lǐ），所以現在多使用微氰化物體係，毒性小且耐磨。電鍍金的設備包括水平噴（pēn）流式杯鍍和垂直（zhí）掛鍍兩種。

杯鍍式的（de）電鍍比掛鍍式（shì）的電鍍容易產生氣泡，氣泡會（huì）影響鍍層的均勻性。電鍍（dù）工藝對鍍層的（de）均勻（yún）度、粗糙度、硬度等都會產生重要的影響。電鍍工藝中比較重要的參數有電流密度、溫度、pH、金質量濃度、電鍍時間等。電流密度增加，金（jīn）沉積速度加快，鍍層較為粗糙;鍍液溫度高於 80℃會導致鍍層硬度（dù）減弱;pH 高於 7 會導致鍍層粗糙;金濃度也會影響金的沉積（jī）速度。隻要控製好（hǎo）電鍍金的各種參數就可以獲得性（xìng）能優良的鍍（dù）層，滿足電子元件製造業的需求 。

2. 化學鍍金

化學鍍金可以分為置換型、還（hái）原型（xíng），這是依據鍍金液中是（shì）否含有還原劑來分型的。置（zhì）換鍍金的原理（lǐ）是（shì）利用金和基體金屬的電位差，電（diàn）位差的產生就會使金由鍍液沉積到基體表麵，基（jī）體也會溶解，基體表麵金屬全部溶解則反映停止。

還原型鍍金的原（yuán）理目前並沒有很明確，有些學者認為是（shì）還原型鍍金同時存在置換型鍍金，有些學者（zhě）認為發生還原型鍍（dù）金需要有具（jù）有催化能力的基體金屬。

化學鍍金的鍍金液由金鹽、配位劑、還原劑、穩定劑組成，有（yǒu）的可能還有表麵改善劑、表麵活性劑。化學鍍金的鍍液也主要（yào）是以亞硫酸鹽、檸檬酸鹽等體係的無氰（qíng）鍍液，無氰工藝的發展也越來越成熟。

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